関東学院大、透過率と導電性両立した透明電極材料を開発

すばらしい。レアメタルを不要かできる技術を日本はどんどんつくってほしい。

日刊工業新聞掲載日 2013年11月08日
　【横浜】関東学院大学の本間英夫名誉教授らは、高い透過率と導電性を両立させた新たな透明電極材料を開発した。無電解のメッキ技術を活用し、銅パターンの幅を０・４マイクロメートルに微細化することに成功。透過率９０％、抵抗値０・５オームを達成した。透明電極は主にタッチパネルに使用される。高感度で高精細な大型スクリーンの製品化につながる。
　樹脂などの絶縁材料や複雑形状の部品に金属を施せる無電解のメッキ技術を応用した。メッキを成長させることでパターンを形成（配線）する。
　低抵抗性能に優れる銅パターンを微細形成するため、透過率と導電性能が高い。タッチパネルに一般的に使用されているインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）電極に比べて抵抗値は約２００分の１となる。また、レアメタルのインジウムが不要。
　既存の設備でパターンニングできることから、真空装置を用いるＩＴＯのスパッタリング加工よりも製造コストを抑えられる。